Development of 157 nm positive resists

H. Ito; G. M. Wallraff; N. Fender; P. J. Brock; W. D. Hinsberg; A. Mahorowala; C. E. Larson; H. D. Truong; G. Breyta; R. D. Allen

作者H. Ito; G. M. Wallraff; N. Fender; P. J. Brock; W. D. Hinsberg; A. Mahorowala; C. E. Larson; H. D. Truong; G. Breyta; R. D. Allen
文件大小585.53KB
发表时间2001
DOI10.1116/1.1415512

发现好书期刊，享受阅读乐趣