Photoinduced outgassing from the resist for extreme ultraviolet lithography by the analysis of mass spectroscopy

T. Watanabe; H. Kinoshita; H. Nii; K. Hamamoto; H. Tsubakino; H. Hada; H. Komano; S. Irie

作者T. Watanabe; H. Kinoshita; H. Nii; K. Hamamoto; H. Tsubakino; H. Hada; H. Komano; S. Irie
文件大小772.46KB
发表时间2001
DOI10.1116/1.1368671

发现好书期刊，享受阅读乐趣