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Stoichiometry and Adhesion of Al/WC

Stoichiometry and Adhesion of Al/WC

Siegel, Donald J.; Hector, Louis G.; Adams, James B.

期刊名称MRS Proceedings
作者Siegel, Donald J.; Hector, Louis G.; Adams, James B.
卷第677卷
电子ISSN1946-4274
文件大小402.96KB
发表时间2001-1
DOI10.1557/proc-677-aa4.25

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