Ion projection lithography below 70 nm: tool performance and resist process
S. Hirscher; M. Kümmel; O. Kirch; W.-D. Domke; A. Wolter; R. Käsmaier; H. Buschbeck; E. Cekan; A. Chalupka; A. Chylik; S. Eder; C. Horner; H. Löschner; R. Nowak; G. Stengl; T. Windischbauer; M. Zeininger
- 作者S. Hirscher; M. Kümmel; O. Kirch; W.-D. Domke; A. Wolter; R. Käsmaier; H. Buschbeck; E. Cekan; A. Chalupka; A. Chylik; S. Eder; C. Horner; H. Löschner; R. Nowak; G. Stengl; T. Windischbauer; M. Zeininger
- 印刷ISSN0167-9317
- 文件大小859.23KB
- 发表时间2002
- DOI10.1016/s0167-9317(02)00529-4
- 页码301-307