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Excimer Laser-Induced Ti Silicidation to Eliminate the Fine-Line Effect for Integrated Circuit Device Fabrication

Excimer Laser-Induced Ti Silicidation to Eliminate the Fine-Line Effect for Integrated Circuit Device Fabrication

Chen, S. Y.; Shen, Z. X.; Xu, S. Y.; Ong, C. K.; See, A. K.; Chan, L. H.

期刊名称Journal of The Electrochemical Society
作者Chen, S. Y.; Shen, Z. X.; Xu, S. Y.; Ong, C. K.; See, A. K.; Chan, L. H.
卷第149卷
期第11期
印刷ISSN0013-4651
文件大小254.16KB
发表时间2002
DOI10.1149/1.1510843

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