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MOCVD precursors for Ta- and Hf-compound films

MOCVD precursors for Ta- and Hf-compound films

H. Machida; A. Hoshino; T. Suzuki; A. Ogura; Y. Ohshita

作者H. Machida; A. Hoshino; T. Suzuki; A. Ogura; Y. Ohshita
印刷ISSN0022-0248
文件大小179.12KB
发表时间2002
DOI10.1016/s0022-0248(01)01963-7
页码586-590

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