Stripping of photoresist using a remote thermal Ar/O[sub 2] and Ar/N[sub 2]/O[sub 2] plasma

G. J. H. Brussaard; K. G. Y. Letourneur; M. Schaepkens; M. C. M. Van De Sanden; D. C. Schram

作者G. J. H. Brussaard; K. G. Y. Letourneur; M. Schaepkens; M. C. M. Van De Sanden; D. C. Schram
文件大小497.58KB
发表时间2003
DOI10.1116/1.1532021

发现好书期刊，享受阅读乐趣