Maturing ECRF technology for plasma control
R. Callis; W. Cary; S. Chu; J. Doane; R. Ellis; K. Felch; Y. Gorelov; H. Grunloh; J. Hosea; K. Kajiwara; J. Lohr; T. Luce; J. Peavy; R. Pinsker; D. Ponce; R. Prater; M. Shapiro; R. Temkin; J. Tooker
- 作者R. Callis; W. Cary; S. Chu; J. Doane; R. Ellis; K. Felch; Y. Gorelov; H. Grunloh; J. Hosea; K. Kajiwara; J. Lohr; T. Luce; J. Peavy; R. Pinsker; D. Ponce; R. Prater; M. Shapiro; R. Temkin; J. Tooker
- 文件大小154.09KB
- 发表时间2003
- DOI10.1088/0029-5515/43/11/022