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Two-step processes for bimodal N concentration profiles in ultra-thin silicon oxynitrides

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Anindya Dasgupta; Christos G. Takoudis

作者Anindya Dasgupta; Christos G. Takoudis
卷第436卷
期第2期
印刷ISSN0040-6090
文件大小163.18KB
发表时间2003
DOI10.1016/s0040-6090(03)00608-4
页码162-167

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