Interfacial chemistry and structures of ultrathin Si oxynitride films

M. Oshima; K. Kimura; K. Ono; K. Horiba; K. Nakamura; H. Kumigashira; J.-H. Oh; M. Niwa; K. Usuda; N. Hirashita

作者M. Oshima; K. Kimura; K. Ono; K. Horiba; K. Nakamura; H. Kumigashira; J.-H. Oh; M. Niwa; K. Usuda; N. Hirashita
卷第216卷
印刷ISSN0169-4332
文件大小208.93KB
发表时间2003
DOI10.1016/s0169-4332(03)00430-6
页码291-295

发现好书期刊，享受阅读乐趣