The interface between silicon and a high-k oxide

• 作者Först, Clemens J.; Ashman, Christopher R.; Schwarz, Karlheinz; Blöchl, Peter E.
• 卷第427卷
• 期第6969期
• 印刷ISSN0028-0836
• 电子ISSN1476-4679
• 文件大小240.37KB
• 发表时间2004
• DOI10.1038/nature02204
• 页码53-56