Effect ofin-situcleaning temperature on the structural quality of homoepitaxial film on Si substrate
- 作者Hyoun Woo Kim
- 卷第39卷
- 期第22期
- 印刷ISSN0022-2461
- 电子ISSN1573-4803
- 文件大小134.80KB
- 发表时间2004-11-15
- DOI10.1023/b:jmsc.0000045621.01061.7c
- 页码6861-6862
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