Reproducibility and homogeneity in step and repeat UV-nanoimprint lithography

M. Otto; M. Bender; F. Richter; B. Hadam; T. Kliem; R. Jede; B. Spangenberg; H. Kurz

作者M. Otto; M. Bender; F. Richter; B. Hadam; T. Kliem; R. Jede; B. Spangenberg; H. Kurz
印刷ISSN0167-9317
文件大小267.86KB
发表时间2004
DOI10.1016/j.mee.2004.02.032
页码152-156

发现好书期刊，享受阅读乐趣