Sub-10 nm High-Aspect-Ratio Patterning of ZnO Using an Electron Beam

• 作者M. S. M. Saifullah; K. R. V. Subramanian; D.-J. Kang; D. Anderson; W. T. S. Huck; G. A. C. Jones; M. E. Welland
• 卷第17卷
• 期第14期
• 印刷ISSN0935-9648
• 电子ISSN1521-4095
• 文件大小298.63KB
• 发表时间2005
• DOI10.1002/adma.200500484
• 页码1757-1761