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ICP etching of sapphire substrates

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Y.P. Hsu; S.J. Chang; Y.K. Su; J.K. Sheu; C.H. Kuo; C.S. Chang; S.C. Shei

作者Y.P. Hsu; S.J. Chang; Y.K. Su; J.K. Sheu; C.H. Kuo; C.S. Chang; S.C. Shei
卷第27卷
期第6期
印刷ISSN0925-3467
文件大小311.16KB
发表时间2005
DOI10.1016/j.optmat.2004.08.076
页码1171-1174

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