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Carbon hard masks for etching sub-90 nm structures

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Kevin A. Pears; Momtchil Stavrev; Alessia Scire; Ralf Koepe; Matthias Markert; Ulrich Egger; Lee Donohue
  • 作者Kevin A. Pears; Momtchil Stavrev; Alessia Scire; Ralf Koepe; Matthias Markert; Ulrich Egger; Lee Donohue
  • 卷第81卷
  • 期第1期
  • 印刷ISSN0167-9317
  • 文件大小714.31KB
  • 发表时间2005
  • DOI10.1016/j.mee.2005.05.002
  • 页码156-161
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