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Effects of Oxygen Plasma Ashing on Barrier Dielectric SiCN Film

Effects of Oxygen Plasma Ashing on Barrier Dielectric SiCN Film

Chen, C. W.; Chang, T. C.; Liu, P. T.; Tsai, T. M.; Tseng, T. Y.
  • 期刊名称Electrochemical and Solid-State Letters
  • 作者Chen, C. W.; Chang, T. C.; Liu, P. T.; Tsai, T. M.; Tseng, T. Y.
  • 卷第8卷
  • 期第1期
  • 印刷ISSN1099-0062
  • 文件大小79.07KB
  • 发表时间2005
  • DOI10.1149/1.1833666
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