发现好书期刊，享受阅读乐趣

海量图书期刊资源，随时随地畅享阅读乐趣

<![CDATA[A Novel Spacer Process for Sub-10-nm-Thick Vertical MOS and Its Integration With Planar MOS Device]]>

Cho, H.; Kapur, P.; Kalavade, P.; Saraswat, K.C.

作者Cho, H.; Kapur, P.; Kalavade, P.; Saraswat, K.C.
卷第5卷
期第5期
文件大小2150.77KB
发表时间2006
DOI10.1109/TNANO.2006.880881
页码554-563

← 返回【学霸图书馆】主页