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Plasma etching of benzocyclobutene in CF[sub 4]∕O[sub 2] and SF[sub 6]∕O[sub 2] plasmas

Plasma etching of benzocyclobutene in CF[sub 4]∕O[sub 2] and SF[sub 6]∕O[sub 2] plasmas

G. S. Kim; C. Steinbrüchel

作者G. S. Kim; C. Steinbrüchel
文件大小709.00KB
发表时间2006
DOI10.1116/1.2187994

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