Sub-10-nm high aspect ratio patterning of ZnO in a 500 μm main field

• 作者M. S. M. Saifullah; K. R. V. Subramanian; D. Anderson; D. Kang; W. T. S. Huck; G. A. C. Jones; M. E. Welland
• 文件大小718.10KB
• 发表时间2006
• DOI10.1116/1.2192545