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Low-pressure detachment nanolithography

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J. K. Kim; J. W. Park; H. Yang; M. Choi; J. H. Choi; K. Y. Suh

作者J. K. Kim; J. W. Park; H. Yang; M. Choi; J. H. Choi; K. Y. Suh
文件大小859.55KB
发表时间2006
DOI10.1088/0957-4484/17/4/017

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