Photothermal Activation of Shallow Dopants Implanted in Silicon
- 作者A.T. Fiory; A. Stevenson; A. Agarwal; N.M. Ravindra
- 卷第36卷
- 期第12期
- 印刷ISSN0361-5235
- 电子ISSN1543-186X
- 文件大小498.10KB
- 发表时间2007-12
- DOI10.1007/s11664-007-0259-5
- 页码1735-1747
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