Evaluation of Si3N4/Si interface by UV Raman spectroscopy
A. Ogura; T. Yoshida; D. Kosemura; Y. Kakemura; T. Aratani; M. Higuchi; S. Sugawa; A. Teramoto; T. Ohmi; T. Hattori
- 作者A. Ogura; T. Yoshida; D. Kosemura; Y. Kakemura; T. Aratani; M. Higuchi; S. Sugawa; A. Teramoto; T. Ohmi; T. Hattori
- 卷第254卷
- 期第19期
- 印刷ISSN0169-4332
- 文件大小216.44KB
- 发表时间2008
- DOI10.1016/j.apsusc.2008.02.151
- 页码6229-6231