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Evaluation of Si3N4/Si interface by UV Raman spectroscopy

Evaluation of Si3N4/Si interface by UV Raman spectroscopy

A. Ogura; T. Yoshida; D. Kosemura; Y. Kakemura; T. Aratani; M. Higuchi; S. Sugawa; A. Teramoto; T. Ohmi; T. Hattori
  • 作者A. Ogura; T. Yoshida; D. Kosemura; Y. Kakemura; T. Aratani; M. Higuchi; S. Sugawa; A. Teramoto; T. Ohmi; T. Hattori
  • 卷第254卷
  • 期第19期
  • 印刷ISSN0169-4332
  • 文件大小216.44KB
  • 发表时间2008
  • DOI10.1016/j.apsusc.2008.02.151
  • 页码6229-6231
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