Interface of atomic layer deposited HfO[sub 2] films on GaAs (100) surfaces

• 期刊名称Applied Physics Letters
• 作者Hackley, Justin C.; Demaree, J. Derek; Gougousi, Theodosia
• 卷第92卷
• 期第16期
• 印刷ISSN0003-6951
• 文件大小274.23KB
• 发表时间2008
• DOI10.1063/1.2908223