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Atomic Layer Deposition of HfO2 Thin Films on Si and GaAs Substrates

Atomic Layer Deposition of HfO2 Thin Films on Si and GaAs Substrates

Hackley, Justin C; Demaree, J. Derek; Gougousi, Theodosia
  • 期刊名称MRS Proceedings
  • 作者Hackley, Justin C; Demaree, J. Derek; Gougousi, Theodosia
  • 卷第1073卷
  • 电子ISSN1946-4274
  • 文件大小156.08KB
  • 发表时间2008-1
  • DOI10.1557/proc-1073-h04-19
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