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Machine learning for inverse lithography: using stochastic gradient descent for robust photomask synthesis

Machine learning for inverse lithography: using stochastic gradient descent for robust photomask synthesis

Jia, Ningning; Lam, Edmund Y
  • 期刊名称Journal of Optics
  • 作者Jia, Ningning; Lam, Edmund Y
  • 卷第12卷
  • 期第4期
  • 印刷ISSN2040-8978
  • 电子ISSN2040-8986
  • 文件大小236.16KB
  • 发表时间2010-04-01
  • DOI10.1088/2040-8978/12/4/045601
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