Establishment of a Near-Field Photolithography Processing Experiment Prediction Model and Parameter Optimization Model

• 作者Lin, Zone-Ching; Yang, Ching-Been
• 卷第8卷
• 期第7期
• 印刷ISSN1546-1955
• 电子ISSN1546-1963
• 文件大小795.34KB
• 发表时间2011
• DOI10.1166/jctn.2011.1797
• 页码1183-1192