[IEEE 2011 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) - Washington, DC, USA (2011.12.5-2011.12.7)] 2011 International Electron Devices Meeting - Bulk planar 20nm high-k/metal gate CMOS technology platform for low power and high performance applications
Cho, H.-J.; Seo, K.-I.; Jeong, W.C.; Kim, Y.-H.; Lim, Y.D.; Jang, W.W.; Hong, J.G.; Suk, S.D.; Li, M.; Ryou, C.; Rhee, H.S.; Lee, J.G.; Kang, H.S.; Son, Y.S.; Cheng, C.L.; Hong, S.H.; Yang, W.S.; Nam, S.W.; Ahn, J.H.; Lee, D.H.; Park, S.; Sadaaki, M.; Cha, D.H.; Kim, D.W.; Sim, S.P.; Hyun, S.; Koh, C.G.; Lee, B.C.; Lee, S.G.; Kim, M.C.; Bae, Y.K.; Yoon, B.; Kang, S.B.; Hong, J.S.; Choi, S.; Sohn, D.K.; Yoon, J. S.; Chung, C.
- 作者Cho, H.-J.; Seo, K.-I.; Jeong, W.C.; Kim, Y.-H.; Lim, Y.D.; Jang, W.W.; Hong, J.G.; Suk, S.D.; Li, M.; Ryou, C.; Rhee, H.S.; Lee, J.G.; Kang, H.S.; Son, Y.S.; Cheng, C.L.; Hong, S.H.; Yang, W.S.; Nam, S.W.; Ahn, J.H.; Lee, D.H.; Park, S.; Sadaaki, M.; Cha, D.H.; Kim, D.W.; Sim, S.P.; Hyun, S.; Koh, C.G.; Lee, B.C.; Lee, S.G.; Kim, M.C.; Bae, Y.K.; Yoon, B.; Kang, S.B.; Hong, J.S.; Choi, S.; Sohn, D.K.; Yoon, J. S.; Chung, C.
- 文件大小1215.26KB
- 发表时间2011
- DOI10.1109/iedm.2011.6131556