Double Si nanocrystal layers grown by RPCVD for non-volatile memory applications

• 作者L. Masarotto; G. Molas; E. Jalaguier; G. Gay; J. P. Colonna; J. M. Hartmann; K. Yckache
• 文件大小498.79KB
• 发表时间2011
• DOI10.1088/0268-1242/26/2/025008