Atomic layer deposition reactor for fabrication of metal oxides
- 作者Krzysztof Kolanek; Massimo Tallarida; Marcel Michling; Konstantin Karavaev; Dieter Schmeisser
- 卷第8卷
- 期第4期
- 印刷ISSN1610-1634
- 电子ISSN1610-1642
- 文件大小422.41KB
- 发表时间2011
- DOI10.1002/pssc.201084011
- 页码1287-1292