Tuning the conductivity of vanadium dioxide films on silicon by swift heavy ion irradiation

Hofsäss, H.; Ehrhardt, P.; Gehrke, H.-G.; Brötzmann, M.; Vetter, U.; Zhang, K.; Krauser, J.; Trautmann, C.; Ko, C.; Ramanathan, S.

期刊名称AIP Advances
作者Hofsäss, H.; Ehrhardt, P.; Gehrke, H.-G.; Brötzmann, M.; Vetter, U.; Zhang, K.; Krauser, J.; Trautmann, C.; Ko, C.; Ramanathan, S.
卷第1卷
期第3期
电子ISSN2158-3226
文件大小998.04KB
发表时间2011-09
DOI10.1063/1.3646527

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