发现好书期刊，享受阅读乐趣

海量图书期刊资源，随时随地畅享阅读乐趣

Low-Roughness Plasma Etching of HgCdTe Masked with Patterned Silicon Dioxide

Z. H. Ye; W. D. Hu; W. T. Yin; J. Huang; C. Lin; X. N. Hu; R. J. Ding; X. S. Chen; W. Lu; L. He

作者Z. H. Ye; W. D. Hu; W. T. Yin; J. Huang; C. Lin; X. N. Hu; R. J. Ding; X. S. Chen; W. Lu; L. He
卷第40卷
期第8期
印刷ISSN0361-5235
电子ISSN1543-186X
文件大小377.17KB
发表时间2011-08
DOI10.1007/s11664-011-1633-x
页码1642-1646