Incipient Ferroelectricity in Al-Doped HfO2 Thin Films
- 作者Stefan Mueller; Johannes Mueller; Aarti Singh; Stefan Riedel; Jonas Sundqvist; Uwe Schroeder; Thomas Mikolajick
- 卷第22卷
- 期第11期
- 印刷ISSN1616-301X
- 电子ISSN1616-3028
- 文件大小1035.03KB
- 发表时间2012
- DOI10.1002/adfm.201103119