Calibrated nanoscale dopant profiling using a scanning microwave microscope

Huber, H. P.; Humer, I.; Hochleitner, M.; Fenner, M.; Moertelmaier, M.; Rankl, C.; Imtiaz, A.; Wallis, T. M.; Tanbakuchi, H.; Hinterdorfer, P.; Kabos, P.; Smoliner, J.; Kopanski, J. J.; Kienberger, F.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者Huber, H. P.; Humer, I.; Hochleitner, M.; Fenner, M.; Moertelmaier, M.; Rankl, C.; Imtiaz, A.; Wallis, T. M.; Tanbakuchi, H.; Hinterdorfer, P.; Kabos, P.; Smoliner, J.; Kopanski, J. J.; Kienberger, F.
卷第111卷
期第1期
印刷ISSN0021-8979
文件大小2790.19KB
发表时间2012
DOI10.1063/1.3672445

发现好书期刊，享受阅读乐趣

Calibrated nanoscale dopant profiling using a scanning microwave microscope