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Tensor Evaluation of Stress Relaxation Profile in Strained SiGe Nanostructures on Si Substrate

Tensor Evaluation of Stress Relaxation Profile in Strained SiGe Nanostructures on Si Substrate

Tomita, M.; Kosemura, D.; Usuda, K.; Ogura, A.
  • 期刊名称ECS Transactions
  • 作者Tomita, M.; Kosemura, D.; Usuda, K.; Ogura, A.
  • 卷第53卷
  • 期第1期
  • 印刷ISSN1938-6737
  • 电子ISSN1938-5862
  • 文件大小206.41KB
  • 发表时间2013-05-03
  • DOI10.1149/05301.0207ecst
  • 页码207-214
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