(Invited) Hafnium Oxide Based CMOS Compatible Ferroelectric Materials

Schroeder, U.; Martin, D.; Mueller, J.; Yurchuk, E.; Mueller, S.; Adelmann, C.; Schloesser, T.; van Bentum, R.; Mikolajick, T.

期刊名称ECS Transactions
作者Schroeder, U.; Martin, D.; Mueller, J.; Yurchuk, E.; Mueller, S.; Adelmann, C.; Schloesser, T.; van Bentum, R.; Mikolajick, T.
卷第50卷
期第4期
印刷ISSN1938-6737
电子ISSN1938-5862
文件大小348.27KB
发表时间2013-03-15
DOI10.1149/05004.0015ecst
页码15-20

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