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(Invited) Atomic Layer Etching Using Thermal Reactions: Atomic Layer Deposition in Reverse

(Invited) Atomic Layer Etching Using Thermal Reactions: Atomic Layer Deposition in Reverse

Lee, Y.; DuMont, J. W.; George, S. M.

期刊名称ECS Transactions
作者Lee, Y.; DuMont, J. W.; George, S. M.
卷第69卷
期第7期
印刷ISSN1938-6737
电子ISSN1938-5862
文件大小608.17KB
发表时间2015-10-02
DOI10.1149/06907.0233ecst
页码233-241

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