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Sub-0.2 V Impact Ionization in Si n-i-p-i-n Diode

Sub-0.2 V Impact Ionization in Si n-i-p-i-n Diode

Das, Bhaskar; Sushama, Sushama; Schulze, Jorg; Ganguly, Udayan
  • 期刊名称IEEE Transactions on Electron Devices
  • 作者Das, Bhaskar; Sushama, Sushama; Schulze, Jorg; Ganguly, Udayan
  • 印刷ISSN0018-9383
  • 电子ISSN1557-9646
  • 文件大小1895.93KB
  • 发表时间2016
  • DOI10.1109/TED.2016.2620986
  • 页码1-6
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