[IEEE 2017 Symposium on VLSI Technology - Kyoto, Japan (2017.6.5-2017.6.8)] 2017 Symposium on VLSI Technology - 10nm 2
nd
generation BEOL technology with optimized illumination and LELELELE
Jeong, W. C.; Ahn, J. H.; Bang, Y. S.; Yoon, Y. S.; Choi, J. Y.; Kim, Y. C.; Paek, S. W.; Ahn, S. W.; Kim, B. S.; Song, T. J.; Jung, J. H.; Do, J. H.; Lim, S. M.; Cho, H.-J.; Lee, J. H.; Kim, D. W.; Kang, S. B.; Ku, J.-H.; Kwon, S. D.; Jung, S.-M.; Yoon, J. S.
- 作者Jeong, W. C.; Ahn, J. H.; Bang, Y. S.; Yoon, Y. S.; Choi, J. Y.; Kim, Y. C.; Paek, S. W.; Ahn, S. W.; Kim, B. S.; Song, T. J.; Jung, J. H.; Do, J. H.; Lim, S. M.; Cho, H.-J.; Lee, J. H.; Kim, D. W.; Kang, S. B.; Ku, J.-H.; Kwon, S. D.; Jung, S.-M.; Yoon, J. S.
- 文件大小704.96KB
- 发表时间2017
- DOI10.23919/VLSIT.2017.7998156