Promising Lithography Techniques for Next-Generation Logic Devices

• 期刊名称Nanomanufacturing and Metrology
• 作者Hasan, Rashed Md. Murad; Luo, Xichun
• 卷第1卷
• 期第2期
• 印刷ISSN2520-811X
• 电子ISSN2520-8128
• 文件大小1640.74KB
• 发表时间2018-6
• DOI10.1007/s41871-018-0016-9
• 页码67-81