海量图书期刊资源,随时随地畅享阅读乐趣
Comprehensive Study of Plasma Pretreatment Process for Thin Gate Oxide (<10nm) Fabricated by Electron Cyclotron Resonance Plasma OxidationK. Chang; C. Li; F. Fahn; T. Yeh; S. Wang · 1996
Test results of the L3 precision muon detectorB. Adeva; M. Aguilar-Benitez; A. Aloisio; M.G. Alviggi; D. Antreasyan; L. Baksay; U. Becker; J. Berdugo; G.J. Bobbink; J.G. Branson; C. Burgos; J.D. Burger; D. Campana; F. Carbonara; M. Cerrada; Y.H. Chang; M.L. Chen; G. Chiefari; N. Colino; E. Drago; P. Duinker; I. Duran; F. Erné; R. Fabbretti; M. Fabre; S. Feher; S.S. Gau; M. Gettner; E. Gonzalez; H. van der Graaf; D. Güsewell; F.G. Hartjes; V. Innocente; B.N. Jin; A. König; S. Lanzano; J.M. LeGoff; X. Leijtens; L. Li; S. Lokos; C. Mana; L. Martinez; G.G.G. Massaro; Y.F. Mao; R. Magahiz; P. McBride; L. Merola; M. Napolitano; H. Onvlee; G. Paternoster; S. Patricelli; Y. Peng; O. Prokofiev; J.M. Qian; P. Razis; L. Romero; J.A. Rubio; H. Rykaczewski; J. Salicio; K. Schetkovsky; P. Schmitt; C. Sciacca; P.G. Seiler; V. Souvorov; K. Strauch; C. Timmermans; S. Volkov; J.H. Wang; Q.F. Wang; Z.M. Wang; T. Wenaus; M. White; R. Wilhelm; C. Willmott; B. Wyslouch; F.Y. Xi; B.Z. Yang; C.G. Yang; Q.Y. Yang; C.H. Ye; S.C. Yeh; C.R. Zabounidis; Z.P. Zhang · 1990
Muon detection in the L3 experiment at LEPB. Adeva; M. Aguilar-Benitez; D. Antreasyan; U. Becker; J. Berdugo; G.J. Bobbink; J. Branson; J. Burger; C. Burgos; D. Campana; F. Carbonara; M. Cerrada; Y.H. Chang; M.L. Chen; G. Chiefari; E. Drago; P. Duinker; I. Duran; F.C. Erné; R. Fabbretti; M. Fabre; S.S. Gau; M. Gettner; E. Gonzalez; H. van der Graaf; F.G. Hartjes; V. Innocente; A.C. König; S. Lanzano; J.M. LeGoff; L. Li; C. Mana; L. Martinez-Laso; G.G.G. Massaro; P. McBride; L. Merola; M. Napolitano; J. Onvlee; G. Paternoster; S. Patricelli; Y. Peng; O. Prokofiev; J.M. Qian; P. Razis; L. Romero; J.A. Rubio; H. Rykaczewski; J. Salicio; A. Schetkowski; P. Schmitt; C. Sciacca; P. Seiler; V. Suvorov; K. Strauch; C. Timmermans; S. Volkov; J.H. Wang; Q.F. Wang; T. Wenaus; M. White; R. Wilhelm; C. Willmott; B. Wyslouch; C.G. Yang; S.C. Yeh · 1989
Study of θ-inclined tracks in L3 muon chambersB. Adeva; M. Aguilar-Benitez; A. Aloisio; M.G. Alviggi; D. Antreasyan; L. Baksay; U. Becker; J. Berdugo; G.J. Bobbink; J.G. Branson; C. Burgos; J.D. Burger; D. Campana; F. Carbonara; M. Cerrada; Y.H. Chang; M.L. Chen; G. Chiefari; N. Colino; E. Drago; P. Duinker; I. Duran; F. Erné; R. Fabbretti; S. Fabre; S. Feher; S.S. Gau; M. Gettner; E. Gonzalez; H. Van Der Graaf; D. Güsewell; F.G. Hartjes; V. Innocente; B.N. Jin; A. König; S. Lanzano; J.M. LeGoff; X. Leijtens; L. Li; S. Lokos; C. Mana; L. Martinez; G.G.G. Massaro; Y.F. Mao; R. Magahiz; P. McBride; L. Merola; M. Napolitano; H. Onvlee; G. Paternoster; S. Patricelli; Y. Peng; O. Prokofiev; J.M. Qian; P. Razis; L. Romero; J.A. Rubio; H. Rykaczewski; J. Salicio; A. Schetkovsky; P. Schmitt; C. Sciacca; P.G. Seiler; V. Souvorov; K. Strauch; C. Timmermans; S. Volkov; J.H. Wang; Q.F. Wang; Z.M. Wang; T. Wenaus; M. White; R. Wilhelm; C. Willmott; B. Wyslouch; F.Y. Xi; B.Z. Yang; C.G. Yang; Q.Y. Yang; C.H. Ye; S.C. Yeh; C.R. Zabounidis; Z.P. Zhang · 1990
Influences of deposition temperature on thermal stability and moisture resistance of chemical vapor deposited fluorinated silicon oxide by using indirect fluorinating precursorK. M. Chang; S. W. Wang; C. J. Wu; T. H. Yeh; C. H. Li; J. Y. Yang · 1996
Reduction of Selectivity Loss Probability on Dielectric Surface during Chemical Vapor Deposition of Tungsten Using Fluorinated Oxide and Removing Silanol Units on Dielectric SurfaceK. M. Chang; S. W. Wang; C. H. Li; J. Y. Tsai; T. H. Yeh · 1996
Observation ofWang, M.-Z.; Lee, Y.-J.; Abe, K.; Abe, K.; Abe, T.; Aihara, H.; Akatsu, M.; Asano, Y.; Aso, T.; Aushev, T.; Bakich, A. M.; Ban, Y.; Banas, E.; Bay, A.; Behera, P. K.; Bizjak, I.; Bondar, A.; Bozek, A.; Bračko, M.; Browder, T. E.; Casey, B. C. K.; Chang, M.-C.; Chang, P.; Chao, Y.; Chen, K.-F.; Cheon, B. G.; Chistov, R.; Choi, Y.; Choi, Y. K.; Drutskoy, A.; Eidelman, S.; Eiges, V.; Fukunaga, C.; Gabyshev, N.; Garmash, A.; Gershon, T.; Golob, B.; Guo, R.; Hagner, C.; Hara, T.; Hazumi, M.; Hojo, T.; Hokuue, T.; Hoshi, Y.; Hou, W.-S.; Hsiung, Y. B.; Huang, H.-C.; Igaki, T.; Igarashi, Y.; Iijima, T.; Inami, K.; Ishikawa, A.; Itoh, R.; Iwasaki, H.; Iwasaki, Y.; Jang, H. K.; Kang, J. H.; Kang, J. S.; Katayama, N.; Kawai, H.; Kawasaki, T.; Kichimi, H.; Kim, D. W.; Kim, H. J.; Kim, J. H.; Kinoshita, K.; Kobayashi, S.; Krokovny, P.; Kuzmin, A.; Kwon, Y.-J.; Lee, S. H.; Li, J.; Lin, S.-W.; Liventsev, D.; MacNaughton, J.; Majumder, G.; Mandl, F.; Matsuishi, T.; Matsumoto, S.; Matsumoto, T.; Mitaroff, W.; Miyata, H.; Moloney, G. R.; Mori, T.; Nagamine, T.; Nagasaka, Y.; Nakano, E.; Nakao, M.; Nakazawa, H.; Nam, J. W.; Natkaniec, Z.; Nishida, S.; Nitoh, O.; Ogawa, S.; Ohshima, T.; Okabe, T.; Okuno, S.; Olsen, S. L.; Ostrowicz, W.; Ozaki, H.; Pakhlov, P.; Park, H.; Park, K. S.; Peters, M.; Piilonen, L. E.; Rozanska, M.; Rybicki, K.; Sagawa, H.; Saitoh, S.; Sakai, Y.; Satapathy, M.; Satpathy, A.; Schneider, O.; Schrenk, S.; Schümann, J.; Schwartz, A. J.; Semenov, S.; Sevior, M. E.; Shibuya, H.; Shwartz, B.; Sidorov, V.; Singh, J. B.; Stanič, S.; Starič, M.; Sugi, A.; Sumiyoshi, T.; Suzuki, S. Y.; Takahashi, T.; Takasaki, F.; Tamai, K.; Tanaka, M.; Taylor, G. N.; Teramoto, Y.; Tokuda, S.; Tsuboyama, T.; Tsukamoto, T.; Uehara, S.; Ueno, K.; Uno, S.; Varner, G.; Varvell, K. E.; Wang, C. C.; Wang, C. H.; Watanabe, Y.; Won, E.; Yabsley, B. D.; Yamada, Y.; Yamashita, Y.; Yamauchi, M.; Yanai, H.; Yeh, P.; Zhang, Z. P.; Žontar, D. · Physical Review Letters · 2003